경제단신-기가급D램 노광기술개발 착수

◆금성일렉트론은 포항공대와 공동으로 오는2003년까지 기가급D램의 핵심기술을 개발키로 했다고 20일 발표했다.금성일렉트론은 회로선폭이 0.2㎛이하의 미세한 회로를 웨이퍼에 형상화할수있는 노광기술의 개발을 위해 포항공대의 방사광가속기를 이용하게 되며 내년부터 2003년까지 4백억원의 개발비를 투입할 계획이라고 밝혔다.